L'XPS est une technique sensible à la surface qui utilisent des photons incidents pour éjecter des électrons d'un échantillon, permettant ainsi d'analyser sa composition élémentaire et sa structure électronique.

Cette technique permet :

  • Le profilage multicouche des métaux ;
  • La détection de problèmes de corrosion et leur origine ;
  • La détermination des états d'oxydation des couches.

XPS/UPS Escalab 250Xi, XPS K-Alpha

  • Spectroscopie chimique et moléculaire quantitative de surface (< 10 nm)
  • Cartographie chimique 2D (résolution latérale de 3 μm)
  • Profilage en profondeur des polymères (profondeur)
  • Ions Ar
  • Sources de clusters Ar+ (profilage des matériaux organiques)
  • Profondeur d'analyse typique de 1 à 10 nm. Résolution latérale typique de 0,5 à 3 µm
  • Spectroscopie de photoémission UV – équilibre de 

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