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Plateforme technologique SIAM
L'XPS est une technique sensible à la surface qui utilisent des photons incidents pour éjecter des électrons d'un échantillon, permettant ainsi d'analyser sa composition élémentaire et sa structure électronique.
Cette technique permet :
- Le profilage multicouche des métaux ;
- La détection de problèmes de corrosion et leur origine ;
- La détermination des états d'oxydation des couches.
XPS/UPS Escalab 250Xi, XPS K-Alpha
- Spectroscopie chimique et moléculaire quantitative de surface (< 10 nm)
- Cartographie chimique 2D (résolution latérale de 3 μm)
- Profilage en profondeur des polymères (profondeur)
- Ions Ar
- Sources de clusters Ar+ (profilage des matériaux organiques)
- Profondeur d'analyse typique de 1 à 10 nm. Résolution latérale typique de 0,5 à 3 µm
- Spectroscopie de photoémission UV – équilibre de
